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  • 焦點大圖-集成電路創新聯盟
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    第四屆國際先進光刻技術研討會在成都開幕

    2020-11-06   

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    11月5日,第四屆國際先進光刻技術研討會在成都開幕,會議由中國集成電路創新聯盟中國光學學會主辦,中國科學院微電子研究所、中科芯未來微電子科技成都有限公司中國科學院光電技術研究所承辦,成都市雙流區人民政府南京誠芯集成電路技術研究院協辦,IEEE電氣和電子工程師協會提供技術支持。本次會議由Mentor、EDWARDS、GIGAPHOTON、漢拓光學材料、華虹集團、JSR、沈陽芯源、KLA、南大光電、PIBOND、全芯智造、SMEE、燕東微電子、ZEISS、Cymer、KEMPUR等國內外企業提供贊助。來自中國、美國、德國、日本、荷蘭等世界各地眾多名企、廠商、科研機構、高校的共500余名技術專家和學者參加了本屆大會。

    會議開始,大會主席、中國集成電路創新聯盟副理事長兼秘書長、中國科學院集成電路創新研究院(籌)院長葉甜春研究員,IEEE終身會士、SPIE & JSAP 會士、ALITECS公司資深經理岡崎信次(遠程),中共成都市雙流區委副書記李建分別致辭。中國光學學會秘書長、COS & OSA & SPIE會士、浙江大學教授、現代光學儀器國家重點實驗室主任劉旭教授主持開幕式。按照大會安排,在這兩天的時間里,來自斯坦福大學、ARCNL、長存、長鑫、華力、Mentor、ASML、ICRD、Nikon、Canon、微軟等公司機構的特邀嘉賓分別就擬定的主題做了特邀報告,深入分析了光刻領域先進節點最新的技術手段和解決方案,內容豐富,包含先進節點的計算光刻技術、SMO、DTCO、EUV、工藝、量測、Deep Learning、光刻設備、材料等。

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    本次會議由于疫情的原因,部分國外嘉賓無法現場參會,因此會議方開通了線上互動環節,除現場500余位參會者外,還有30余位國外演講嘉賓和組委會成員線上參會,進行線上報告并與現場參會者進行互動。會議現場也嚴格執行成都疫情期間的管理方案,實行體溫監測,發放口罩及消毒用品等措施。疫情并沒有削弱業內對IWAPS的熱情,參會人數相比往屆會議有大幅提升。

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    近年來,中國集成電路蓬勃發展,基于這樣的形式,國際先進光刻技術研討會應運而生。IWAPS為來自國內外半導體工業界、學術界的資深技術專家和優秀研究人員等提供了一個技術交流平臺,參會者可以就材料、設備、工藝、測量、計算光刻和設計優化等主題分享各自的研究成果,探討圖形化解決方案,研討即將面臨的技術挑戰。作為國際高端光刻技術研討會,其發言者均為特邀自光刻及其相關領域的國內外資深專家,代表了其所在領域的國際先進水平。報告內容涉及廣泛,涵蓋了當前的技術現狀、未來的發展趨勢以及面臨的挑戰等。該研討會旨在為與會者提供一個深入討論的互動平臺,也為想要了解更多國內外半導體業界動態的研究者和工程師提供更多機會。

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    IWAPS已連續舉辦三屆,今年在成都舉辦第四屆。成都,在新中國成立初期就是國家四大電子工業基地之一,是我國中西部電子信息產業重要基地。這座新中國規劃的電子產業基地已經走過了60余年的風風雨雨,為支撐我國的電子產業尤其是國防軍工電子產業做出過巨大的貢獻。成都的電子信息產業基礎雄厚,擁有電子制造企業500余戶,聚集了英特爾、IBM、格羅方德等60余家世界500強和國際知名公司,從業人員60余萬。此外,成都還擁有一批國家級電子類高校和科研機構。作為中西部地區集成電路產業發展領先城市,近兩年密集出臺相關政策,加快推動集成電路產業發展,產業發展勢頭強勁。目前,成都已形成了從集成電路、新型顯示、整機制造到軟件服務的全產業鏈條,正聚焦“一芯、一屏”攻堅突破集群發展,積極創建“中國制造2025”國家級示范區。此次會議數百位行業專家齊聚一堂,共同把脈先進光刻技術的發展節奏,為助推產業升級改造指點迷津。

    本次會議結合當前國內外光刻技術發展現狀,以專業視角預測發展趨勢,助謀集成電路產業發展,并將為雙流區乃至成都市的集成電路產業發展提供更為廣闊的發展思路,推動產業實現更快更優的提升。

    集成電路聯盟秘書處:

    地址:北京市朝陽區北土城西路3號電話:010-82997023 010-82995892

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